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Mentor Graphics 客户加强 Calibre Pattern Matching 的使用,以此解决最严峻的 IC 验证和制造问题

摘要:

  • 客户和生态系统合作伙伴正加强 Calibre® Pattern Matching 解决方案的使用,以此解决集成电路 (IC) 验证和制造的复杂问题。
  • 该解决方案集成了所有 Calibre 工具和流程,用以促进物理验证、可制造性设计 (DFM)、良率提升以及失效分析的新应用。
  • 此方案被广泛应用于各大IC设计公司,各个工艺制程,及包括 eSilicon、三星代工厂和 SMIC 的各大晶圆代工厂。

俄勒冈州威尔逊维尔,2016 年 6 月 16 日—Mentor Graphics公司(纳斯达克代码:MENT)今天宣布,客户和生态系统合作伙伴正加强大对Calibre Pattern Matching 解决方案的使用,以此解决过往非常棘手的 IC 验证和制造问题。此方案被集成到 Mentor® Calibre nmPlatform 解决方案中,形成协同作用,进而促进跨多个工艺节点的IC设计公司和晶圆代工厂的新应用程序。

Calibre Pattern Matching 技术通过自动化的可视几何形状捕捉和对比技术,对实现复杂的基于文本的设计规则进行补充。此可视化方案非常强大,不仅表现在能捕捉复杂的图形关系,还能在混合工具流程中进行工作,因此 Mentor 客户能轻松创建新的应用程序,从而解决各类难题。由于其集成在Calibre nmPlatform 工具集中,Calibre Pattern Matching 功能可利用所有 Calibre 工具和流程的业内领先性能和精度,为设计规则检查 (DRC)、可靠性检查、DFM、良率提升以及失效分析创造新的机会。

“我们的客户借助 eSilicon 的设计服务、IP 和生态系统管理,成功地提供市场领先的 IC,”eSilicon  IP 产品和服务总经理 Deepak Sabharwal 表示。“我们使用 Calibre Pattern Matching 来创建并实现基于 Calibre 的良率减损设计套件,帮助识别并消除影响产品量产时间的设计图形。”

自从引进 Calibre Pattern Matching,由于其可解决以往非常复杂或执行起来较为耗时的问题,其使用范围不断快速扩张。新的使用案例包括以下内容:

  • 对于为处理直线图形设计的产品而言,要进行弧形结构 IC 设计的物理验证(面向模拟、高功耗、射频 (RF) 和微机电 (MEM) 电路)是极其困难的。Calibre 客户将 Calibre Pattern Matching 技术和其他 Calibre 工具结合使用,从而自动化验证,以此提高效率和准确性,特别是相较于手动技术而言。
  • Calibre Pattern Matching 技术能用于快速查找并移除已知或疑似难以制造的设计图形(“良率减损”)。晶圆代工厂或设计公司创建良率减损图形库,并将针对一个工艺节点或特有设计方案使用。三星代工厂在其闭环 DFM 解决方案中就使用了这一方法,从而帮助其客户更快地投入到量产中,以及降低工艺设计的可变性。
  • 有些客户会把Calibre Pattern Matching 技术与 Calibre Auto-Waivers™ 结合使用,以此确定可免除 DRC 错误的特定环境。这一改进能自动筛选 DRC 错误,从而节约大量时间,提升设计质量。

“为了帮助客户创建可交付制造的设计,我们运用 Calibre Pattern Matching创建,使用良率减损数据库以在模块级别修复大部分的光刻热点(hotspots)。然后我们采用整合Calibre Pattern Matching 和 Calibre LFD 的解决方案,在芯片级进行快速 Signoff DFM 光刻检查,”SMIC 高级副总裁 Min-Hwa Chi 说道。“由于我们提供了基于 Calibre 平台的解决方案来处理制造稳健性的问题,很多客户都打算采用 SMIC 的 DFM 解决方案。”

借助 Calibre Pattern Matching 工具,设计公司现在可就其独特的设计风格对其物理验证检查进行优化。由于此工具不依赖脚本语言的专业知识,因此极为简单易用。事实上,任何工程师都能定义可视化图形,用以捕捉工程师认为的关键几何形状和几何结构。

“随着 Calibre Pattern Matching 技术使用范围的日益广泛,Mentor 一直在帮助我们的客户解决更为复杂的设计问题,无论针对哪个工艺节点,”Mentor Graphics 公司 Design-to-Silicon 事业部副总裁兼总经理 Joe Sawicki 表示。“通过整合 Calibre Pattern Matching 工具,Calibre 平台成为了生态系统中设计和制造之间极为重要的桥梁。”