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三星代工厂闭环 DFM 解决方案利用 Mentor Graphics 工具,加快客户的量产速度

摘要:

  • 三星代工厂闭环可制造性设计 (DFM) 解决方案利用来自设计、测试和制造的数据,确定影响客户产品良率的因素,并对这些限制因素进行分类。
  • 三星代工厂应用了这创新性的持续学习的解决方案,获得了逾 10% 的良率增益*。
  • 闭环 DFM 解决方案乃基于 Mentor® Calibre® 和 Tessent® 平台建立。

俄勒冈州威尔逊维尔,2016 年 6 月 1 日—Mentor Graphics公司(纳斯达克代码:MENT)今天宣布,三星代工厂的闭环 DFM 解决方案采用 Mentor Calibre 和 Tessent 平台,加快客户的量产速度。成功的量产直接影响到客户的产品成本和上市时间。在闭环 DFM 流程中,三星将其 DFM 综合套件与测试和制造专业知识相结合,从而确定最有可能影响制造良率的集成电路 (IC) 设计图形,然后借此帮助客户改善设计质量、提高良率以及加快投入到量产的速度。三星的解决方案有助于客户提取影响良率的设计图形,然后利用这些信息改善制造和测试,并且还可通过生产出的产品的实际结果来帮助产品设计和提高良率,这一过程形成一个闭环。此解决方案不仅对于最初客户设计非常有效,而且若是面向整个产品系列的相同客户,还能将允许从现有设计中得到的图形应用于新一代设计中。

“三星致力于帮助我们的客户尽快将其半导体设计投入到量产,进而投入市场中,”三星代工厂设计服务部门高级副总裁 JaeHong Park 说道。“我们的闭环 DFM 解决方案建立于 Mentor 平台上,让客户能深入而快速地看到设计的hotspots,进而提高质量和良率。从我们的工作中可以看到,相较于没有采用我们的闭环 DFM 系统的相同设计,采用了该系统的设计的生产良率在生产初期阶段增加了逾 10%。

“这款应用于 Calibre 和 Tessent 平台的全新使用模型是我们与三星的持久合作关系中的另一个里程碑,”Mentor Graphics 公司的 Design-to-Silicon 事业部副总裁兼总经理 Joe Sawicki 表示。“我们的共同客户可以使用闭环 DFM 以及 Calibre 和 Tessent 的生产软件,在三星的所有工艺节点上,更快地生产尖端产品。”

闭环 DFM 的制造前流程 PRISM(图形识别和确定评分方法)可通过使用 Calibre Pattern Matching™ 解决方案,将 IC 设计解构成版图图形进行分析,由此来识别以往对良率有减损的已知图形。随后,三星使用 Calibre LFD™ 软件以及 Calibre DFM 产品 来识别以往未知的潜在光刻hotspots,并分析其对可制造性可能产生的影响。三星和客户联合充分利用 PRISM 结果,确定设计和/或制造所需改动,确保客户独特的设计风格能达到目标良率,并且降低量产的可变性。

在制造之后,第二个闭环 DFM 流程 FLARE(使用 DFM hotspot数据进行失效分析和良率等级估算)可基于硅结果确定影响良率的版图图形。晶圆代工厂客户会诊断来自晶圆测试的失效数据,并且三星代工厂将对此数据进行分析,以确定导致良率损失的特定的版图图形。三星及其客户可使用此信息来分析物理设计功能导致的系统问题,进而为设计改版以及使用同样 IP 模块和/或子系统的新设计提高生产“预备”速度。三星代工厂还可使用 FLARE 数据来改进其 DFM 套件,以便与客户设计师分享硅结果。FLARE 使用 Tessent Diagnosis 工具进行版图布局感知诊断,运用 Calibre Pattern Matching 解决方案来生成hotspot数据,此外还采用 Tessent YieldInsight® 产品中的统计分析来确定影响良率的版图图形。

如今,闭环 DFM 流程已被三星代工厂服务的客户在其生产中采用。通过 14 nm 工艺的验证,此流程可用于其他三星工艺节点进行的 IC 制造中。