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台湾积体电路(TSMC)的65纳米工艺已采用明导公司(Mentor Graphics)的Calibre xRC 及 Calibre xL 工具软件

威尔森 (WILSONVILLE), 俄勒冈州(Oregon), 2006 年 12 月 14 号

    明导公司 (Nasdaq:MENT) 今天宣布支持并提供台积电先进的 65 纳米工艺所需要的规则文件(Rule decks) ,包括
Calibre®xRC™及 Calibre xL 两套寄生参数提取工具软件。这些规则文件包含了先进的建模能力 ,其中包含工艺参数敏感性 (process sensitivity) 以及自感和互感电感。现在 Calibre 可以提供相关的解决方案给各种不同的集成电路设计,包括了模拟,数字,混合信号以及存储器电路。

     对纳米电路的设计者而言,准确的电路仿真与分析需要的不只是传统上的电阻和电容。设计者需要一个更准确的后版图硅模型(post-layout silicon model) 其中要包含寄生电感 , 工艺参数敏感性效应以及没有包含在组件模型的各种效应的有效的计算。在电路设计流程中使用 Calibre xRC 及 Calibre xL 可以帮助电路设计者获得设计中所有必须的数据,从而实现一次性流片成功。

     “ 我们已经开发出了一套针对寄生电路提取工具的测试方法,以确保我们提供给客户的是最准确的解决方案。Calibre xRC 和 Calibre xL 已经成功地通过我们的内部测试,被证明在 65 纳米工艺中,可以为我们提供高级的建模能力来计算工艺中的各种效应。”
                                                       - Ed Wan ,台湾积体电路公司设计服务市场单位的资深处长

    提供精确的、完整的寄生电路模型是 Calibre 软件致力于全面性提升生产良率不可或缺的一个重要部分。当我们在器件建模时结合使用 Calibre LVS , 那么Calibre xRC 和 Calibre xL 就可以通过精确地计算工艺中各种效应和互连模型,来帮助设计者找出那些电路参数可能造成的良率问题。同时,客户可以得到整套的电感模型包括自感、互感和趋肤效应 (skin effect) 模型,而这些模型对目前的高频电路中的互连线设计是非常必要的。”
                                                      - Joe Sawicki ,明导公司D2S副总裁及总经理

新的纳米硅模型使准确的后版图电路功能验证成为可能 :

     纳米时代,不断缩小的几何尺寸和不断扩大的设计规模使单个芯片拥有更多的功能。但是随着功能的增加, 伴之而来的是复杂性。这对成功的电路设计造成了更多问题。这就要求单芯片的电路设计考虑到真实的物理器件和互连设计,即需要准确的硅模型。Calibre xRC符合纳米设计的要求,它采用综合方法提取器件和参数,它拥有准确的硅模型能够进行大量的后版图分析。

关于明导公司 :

    明导公司 (Nasdaq: MENT) 在电子硬件及软件设计解决方案上一直是全球的领先者 , 包含产品提供和顾问服务 , 同时因对世界上最成功的电子及半导体公司的优秀支持服务而获奖。公司成立于 1981 年 , 前 12 个月的盈利超过 7 亿五仟万美金并且拥有约 4100 名分布全球的员工。公司总部座落于 8005 S.W, Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777,
全球网站为 : http:www.mentor.com